在新能源、锂电池、半导体、新型农药等产业的蓬勃发展中，氟化工扮演着至关重要的角色。然而，氟化工生产过程不可避免地会产生含氟量较高的废水。过高的氟含量一旦进入水系，将对周边生态环境和人类健康造成严重威胁，引发人、畜中毒等危害。因此，在废水排放前进行特殊处理以降低氟含量，成为氟化工及相关产业必须直面的关键问题。

目前，吸附、离子交换或反渗透等技术已在饮用水中去除微量氟化物方面取得一定成果。然而，面对工业废水，这些技术却显得力不从心。工业废水中的氟化物浓度更高，水质环境更为复杂，含有多种干扰物质，使得传统技术的处理效果大打折扣，无法直接应用于工业废水治理。因此，深入研究反应机理、精心设计工艺组合、开展系统试验以及加强水质监测，成为提高工业废水氟化物去除效率的关键。

氢氟酸作为氟化工的重要原料，在太阳能电池、金属电镀以及微电子工业的半导体蚀刻等环节得到广泛应用。半导体在氢氟酸蚀刻过程中产生的大量氟化物废水，其氟化物浓度范围通常在100ppm到10000ppm之间。不同排放场景对氟化物浓度有着严格的限制，若废水排入污水管网，排放限值需低于20ppm；排入河流水体时，限值则小于5ppm，部分辖区甚至要求低于2ppm。

针对半导体行业氟化物废水处理难题，一种创新的解决方案应运而生。该方案将智能化混凝沉淀与陶瓷超滤系统相结合，对传统化学沉淀工艺进行改进。在智能化混凝沉淀环节，借助智能控制系统实现自动精确加药。这一创新点有效避免了传统加药方式中石灰和氯化钙加料不足或过量的问题，确保了化学反应的高效进行，提高了氟化物的去除效率。

经过混凝处理后的液体，通过陶瓷膜进行过滤。陶瓷膜能够高效地过滤掉CaF₂和Al(OH)₃等细颗粒，使流出液成为干净的澄清液。这种澄清液不仅可直接排放，满足严格的环保标准，还能重新用于半导体的氢氟酸蚀刻清洗，实现了水资源的循环利用。

与传统的处理方法相比，该新型方案无需大型澄清/沉淀池和筒式过滤设备，大大减少了占地面积。同时，简化的工艺流程降低了维护和运营成本，为半导体行业提供了一种成本优化的氟化物去除解决方案，在保障环境安全的同时，也为企业带来了显著的经济效益。随着环保要求的不断提高和技术的持续进步，氟化工废水除氟领域将不断涌现出更多创新解决方案，为相关产业的可持续发展提供有力支持。